Apakah prinsip kerja etsa?

Prinsip Etching: Biasanya dirujuk sebagai etsa atau pemotretan fotokimia, ia merujuk untuk menghilangkan filem pelindung kawasan yang akan terukir selepas pendedahan kepada pembuatan dan pembangunan plat, dan menghubungi penyelesaian kimia semasa etsa untuk mencapai kesan membubarkan kakisan dan membentuk rempah -rempah.

Ia juga digunakan secara meluas dalam pemprosesan panel instrumen pengurangan berat badan, papan nama dan kerja -kerja nipis yang sukar diproses oleh kaedah pemprosesan tradisional. Setelah penambahbaikan dan pembangunan peralatan proses yang berterusan, ia juga boleh digunakan untuk memproses produk -produk ketetapan ketepatan bahagian lembaran elektronik dalam penerbangan, jentera, dan industri kimia. Terutama dalam proses pembuatan semikonduktor, etsa adalah teknologi yang sangat diperlukan.

Aliran Proses Etching: Kaedah Proses Etching: Projek menyediakan saiz stok dan lukisan filem mengikut grafik→ penyediaan bahan→ pembersihan bahan→ pengeringan→ filem atau salutan→ pengeringan→ dedahan→ pembangunan→ pengeringan→ etsa→ pelucutan→ Pemeriksaan dan Penghantaran Produk.